Resumen
El objetivo de este estudio fue analizar la composición química y la topografía superficial de implantes de titanio comercialmente puro, obtenidos de 3 marcas comerciales utilizadas actualmente en odontología. Fueron analizados 6 implantes de titanio de los siguientes sistemas: SIN, P-I philosophy y Neodent. Este material fue dividido en 3 grupos de 3 implantes cada uno. Para determinar la composición química de la superficie fue utilizada la técnica de Espectroscopia de Fotoelectrones Excitada por rayos-X (XPS), mientras que para caracterizar la topografía superficial fue utilizada Microscopia electrónica de barrido. Titanio, Carbono Silicio y Oxigeno fueron identificados en todas las muestras analizadas. Otros elementos contaminantes identificados fueron Silicio, Aluminio, azufre, plomo, Fósforo, Calcio, Sodio, Nitrógeno y Carbono. Fueron identificadas impurezas en la superficie de todos los implantes analizados. Consideramos necesarios otros estudios que relacionen permanentemente la presencia y concentración de estos elementos con el proceso de oseointegración.
PALABRAS CLAVE: implantes dentarios, titanio, superfície, XPS.
Como citar este artículo
MUÑANTE-CÁRDENAS, J. L. & LANDERS, R. Chemical and topographic analysis of dental implant surfaces using photoelectron spectroscopy and scanning electron microscopy: preliminary study. Int. J. Odontostomat., 6(3):355-361, 2012.
